SK하이닉스, 제5회 혁신특허 시상식 개최

[현대경제신문 하지현 기자] SK하이닉스는 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원을 대상으로 '혁신특허포상' 시상식을 개최했다고 8일 밝혔다.

SK하이닉스는 지난 7일 제5회 혁신특허포상 시상식을 개최했다. 이번 시상식은 김윤욱 지속경영담당 부사장, 민경현 특허담당 부사장 등 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가는 방식으로 진행됐다.

이번 시상식의 최고상(금상)은 총 2건으로, DRAM 내부의 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 신범주 DRAM개발 TL과 DRAM 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 황선환 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU(사내대학) 교수가 수상했다.

SK하이닉스는 이외에도 NAND, Solution, Package 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건(금상 2건, 은상 3건, 동상 5건)의 혁신특허를 선정하고, 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총 상금 2억 1500만 원을 수여했다.

SK하이닉스는 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정, 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다.